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半導體與電子制造軟硬件領軍企業ASMPT與其子品牌奧芯明于2026年中國半導體展會(SEMICON China 2026)N4451展位,推出全新裸晶圓處理系統ALSI LASER1206。本次展會主題為“智創‘芯’紀元”,ALSI LASER1206精準響應專注于先進封裝的半導體企業日益增長的需求,為人工智能、智能出行等高增長市場提供解決方案。該全新系統搭載專利多光束激光加工技術,可實現膜框與裸晶圓全自動化處理,進一步豐富公司產品線,并重點聚焦前道工藝領域。

ALSI LASER1206,ASMPT推出的全自動激光切割及開槽系統
該新一代激光平臺專為滿足集成器件制造(IDM)廠商與晶圓代工廠對晶圓激光切割及開槽日益復雜的要求而設計。這款創新設備具備行業內無可比擬的精度與性能,可處理先進存儲、邏輯芯片、人工智能及功率器件等領域的各類半導體材料。其專利紫外激光技術可在實現最高精度的同時將熱影響降至最低,有效減少毛刺形成與芯片強度下降。該設備集成晶圓涂覆與清洗工位,并提供多種膜框及裸晶圓全自動化處理選配方案。平面運動系統的定位精度<1.5微米。開槽工藝可處理厚度60至800微米的晶圓,切割工藝可處理厚度20至200微米的晶圓。

全自動ALSI LASER1206系統采用專利多光束紫外激光技術,實現高精度晶圓切割與開槽,同時將熱影響降至最低,完美適配硅、碳化硅、氮化鎵及其他先進半導體材料
ASMPT ALSI業務與營銷負責人Patrick Huberts表示:“這一全新平臺旨在滿足人工智能革命硬件需求,它將高精度激光加工與智能自動化相結合,助力下一代半導體制造。該平臺是先進封裝、人工智能、車用功率器件及移動終端應用的理想選擇,同時也是實現高良率等離子切割前道準備的最優解決方案。”

