近日，比利時先進半導(dǎo)體技術(shù)研究與創(chuàng)新中心（imec）宣布已安裝ASML EXE:5200高數(shù)值孔徑極紫外光刻系統(tǒng)，并將其描述為“當(dāng)今最先進的光刻設(shè)備”。

imec在公告中表示：“這一戰(zhàn)略里程碑進一步鞏固了imec作為行業(yè)進入埃米時代引領(lǐng)者的地位，為其全球合作伙伴生態(tài)系統(tǒng)提供了無與倫比的早期機會，以獲取下一代芯片微縮技術(shù)。”

該高數(shù)值孔徑EUV系統(tǒng)直接集成了全套圖形化工藝、量測工具及材料，將使imec及其合作伙伴能夠獲得突破2nm以下邏輯制程和高密度存儲技術(shù)所需的性能，從而推動先進人工智能和高性能計算的發(fā)展。

imec宣布，全球最先進的高數(shù)值孔徑EUV光刻系統(tǒng)ASML EXE:5200已運抵其位于魯汶的300mm潔凈室
 

開創(chuàng)高數(shù)值孔徑EUV技術(shù)
imec首席執(zhí)行官Luc Van den hove表示：“過去兩年是高數(shù)值孔徑（0.55 NA）EUV光刻技術(shù)發(fā)展的重要篇章，imec與ASML攜手生態(tài)系統(tǒng)合作伙伴，在其位于費爾德霍芬的聯(lián)合實驗室共同開創(chuàng)了高數(shù)值孔徑EUV技術(shù)。如今將EXE:5200高數(shù)值孔徑EUV光刻系統(tǒng)安裝到我們位于魯汶的300mm潔凈室中，我們旨在將這些圖形化技術(shù)提升至產(chǎn)業(yè)級規(guī)模。”

“該系統(tǒng)無與倫比的分辨率、改進的套刻精度、高產(chǎn)能，以及新的晶圓存儲庫（可提升工藝穩(wěn)定性和吞吐量），將為我們的合作伙伴在加速開發(fā)2nm以下芯片技術(shù)方面提供決定性優(yōu)勢。隨著行業(yè)邁入埃米時代，高數(shù)值孔徑EUV將成為一項基石能力，imec很榮幸通過為合作伙伴提供最早、最全面的技術(shù)獲取途徑來引領(lǐng)這一進程。”

這一成就是imec與ASML五年戰(zhàn)略合作伙伴關(guān)系的關(guān)鍵組成部分，該合作得到了歐盟（通過芯片聯(lián)合體及歐洲共同利益重要項目）、比利時弗蘭德政府及荷蘭政府的支持。Van den補充道：“作為歐盟資助的NanoIC試點生產(chǎn)線的核心組成部分，該設(shè)備將在未來幾十年為鞏固歐洲作為先進半導(dǎo)體研發(fā)領(lǐng)導(dǎo)者的地位發(fā)揮關(guān)鍵作用。”

Van den表示：“將這一新型光刻系統(tǒng)引入imec的潔凈室，使該研究中心成為一個先進圖形化工藝的綜合開發(fā)環(huán)境。imec與芯片制造商、設(shè)備、材料及光刻膠供應(yīng)商、掩模公司以及量測專家的生態(tài)系統(tǒng)合作，將使我們能夠加速學(xué)習(xí)周期，為下一代邏輯和存儲器件技術(shù)開發(fā)尖端的圖形化工藝。”

ASML首席執(zhí)行官Christophe Fouquet評論道：“imec安裝EXE:5200系統(tǒng)標(biāo)志著向埃米時代邁出了重要一步。我們正攜手加速高數(shù)值孔徑EUV技術(shù)的可擴展性，以支持下一代先進存儲和計算技術(shù)的發(fā)展。”